特許

J-GLOBAL ID：200903088668131310

保護膜およびその製造方法ならびに物品

発明者： 中山 正俊 ,  津吉 淳弘
出願人/特許権者： ティーディーケイ株式会社
代理人 (1件)： 石井 陽一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-345923
公開番号（公開出願番号）：特開平11-158631
出願日： 1997年12月01日
公開日（公表日）： 1999年06月15日
要約：

【要約】【課題】 物品との密着性に優れ、摩擦が低く、しかも耐久性に優れた保護膜と、この保護膜を有する物品とを提供する。【解決手段】 炭素および水素を主成分とし、表面付近がフッ化されている保護膜、およびこの保護膜が摺動部に形成された物品。前記保護膜は、炭素および水素を主成分とするDLC(ダイヤモンド状カーボン)薄膜を、F2等のフッ素含有化合物のガスを含む雰囲気中に晒す方法、または、前記DLC薄膜を、フッ素含有化合物のガスを含む雰囲気中でプラズマ処理する方法、または、前記DLC薄膜を、Ar等の無機ガス中でプラズマ処理した後、フッ素含有化合物のガスを含む雰囲気中に晒す方法、により形成される。

請求項（抜粋）：

炭素および水素を主成分とし、表面付近がフッ化されている保護膜。

IPC (3件)：

C23C 16/26 ,  C23C 16/50 ,  C23C 16/56

FI (3件)：

C23C 16/26 ,  C23C 16/50 ,  C23C 16/56

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭61-238961
  
• 特開平2-250968
  
• 磁気ヘッドおよびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-266938   出願人：松下電器産業株式会社
• 特開昭60-013065