特許
J-GLOBAL ID:200903088676763830
研磨パッド用ウレタン成形物および研磨用パッド
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
柿沼 伸司
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-252741
公開番号(公開出願番号):特開2003-064143
出願日: 2001年08月23日
公開日(公表日): 2003年03月05日
要約:
【要約】【課題】耐加水分解性、耐熱性が高く、研磨パッドとして優れた平坦性、研磨特性を有するポリウレタン系の研磨パッド用ウレタン成形物を提供すること。【解決手段】特定の環構造を繰り返し単位として有する次式で例示されるポリオール化合物とポリイソシアネート化合物とを重付加反応することで得られるポリウレタンを成分として含む研磨パッド成形物。【化1】
請求項(抜粋):
両末端にそれぞれ独立に一般式(I)-CH2-(CH2)m-OH、-CH2-(CH2)n-OH (I)〔m、nは独立に0〜5の整数を表す〕で示される構造を有し、その間を構成する繰り返し単位の少なくとも一種類が一般式(II)【化1】(II)〔式中、R1〜R8は独立にハロゲン原子、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜20の炭化水素基(R1〜R8のうち2つ以上が連結し環を形成してもよい。)、シアノ基、水酸基、アルコキシル基、アルコキシカルボニル基、アシル基、ホルミル基、カルボキシル基(2個のカルボキシル基から酸無水物を形成してもよい。)またはシリル基を表す。〕で示される環構造であるポリオール(a)を少なくとも1種含むポリオール化合物とポリイソシアネート化合物との重付加反応により得られるポリウレタンを成分として含む研磨パッド用ウレタン成形物。
IPC (6件):
C08G 18/28
, B24B 37/00
, C08J 5/14 CFF
, C08K 7/22
, C08L 75/04
, H01L 21/304 622
FI (6件):
C08G 18/28
, B24B 37/00 C
, C08J 5/14 CFF
, C08K 7/22
, C08L 75/04
, H01L 21/304 622 F
Fターム (85件):
3C058AA07
, 3C058AA09
, 3C058CB01
, 3C058DA12
, 4F071AA53
, 4F071AD04
, 4F071AD06
, 4F071AF01
, 4F071AF22
, 4F071AF45
, 4F071AH12
, 4F071DA17
, 4F071DA20
, 4J002BD062
, 4J002BG102
, 4J002CK051
, 4J002FA102
, 4J002GQ00
, 4J002GT00
, 4J034BA05
, 4J034CA03
, 4J034CA04
, 4J034CA05
, 4J034CA14
, 4J034CB03
, 4J034CB04
, 4J034CB05
, 4J034CB07
, 4J034CC02
, 4J034CC03
, 4J034CC08
, 4J034CC12
, 4J034CC23
, 4J034CC26
, 4J034CC44
, 4J034CC45
, 4J034CC52
, 4J034CC54
, 4J034CC61
, 4J034CC62
, 4J034CC65
, 4J034CC67
, 4J034CD13
, 4J034DA01
, 4J034DB03
, 4J034DB04
, 4J034DB07
, 4J034DD06
, 4J034DF01
, 4J034DF02
, 4J034DF16
, 4J034DF20
, 4J034DG03
, 4J034DG06
, 4J034DL02
, 4J034DN03
, 4J034GA02
, 4J034GA06
, 4J034GA66
, 4J034GA67
, 4J034GA72
, 4J034HA02
, 4J034HA07
, 4J034HA08
, 4J034HC03
, 4J034HC12
, 4J034HC13
, 4J034HC17
, 4J034HC22
, 4J034HC35
, 4J034HC46
, 4J034HC52
, 4J034HC61
, 4J034HC64
, 4J034HC67
, 4J034HC71
, 4J034HC73
, 4J034HD00
, 4J034JA01
, 4J034JA02
, 4J034JA14
, 4J034MA22
, 4J034QB04
, 4J034RA14
, 4J034RA19
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