特許
J-GLOBAL ID：200903088712525649

偏光フィルムの製造方法

発明者：
北村 秀一

北村 秀一 について


出願人/特許権者：
日本合成化学工業株式会社

日本合成化学工業株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-312695
公開番号（公開出願番号）：特開平10-142422
出願日： 1996年11月07日
公開日（公表日）： 1998年05月29日
要約：
【要約】【課題】 光学性能が非常に優れ、かつ耐熱時の寸法安定性に優れた偏光フィルムの製造方法を提供すること。【解決手段】 ポリビニルアルコール系偏光フィルムをホウ素化合物水溶液処理した後、水洗処理を施す工程において、該ホウ素化合物水溶液処理を2回以上にわたって行い、第1のホウ素化合物処理でポリビニルアルコール系偏光フィルム中のホウ素原子含有量を4重量%未満とし、第2以降のホウ素化合物処理及び水洗処理を施した後のポリビニルアルコール系偏光フィルム中のホウ素原子含有量を4〜7重量%とする偏光フィルムの製造方法。
請求項（抜粋）：
ポリビニルアルコール系偏光フィルムをホウ素化合物水溶液で処理した後、水洗処理を施す工程において、該ホウ素化合物水溶液処理を2回以上にわたって行い、第1のホウ素化合物処理でポリビニルアルコール系偏光フィルム中のホウ素原子含有量を4重量%未満とし、第2以降のホウ素化合物処理及び水洗処理を施した後のポリビニルアルコール系偏光フィルム中のホウ素原子含有量を4〜7重量%とすることを特徴とする偏光フィルムの製造方法。
IPC (5件)：
G02B 5/30 ,  B29D 11/00 ,  C08J 5/18 CEX ,  B29K 29:00 ,  C08L 29:04
FI (3件)：
G02B 5/30 ,  B29D 11/00 ,  C08J 5/18 CEX
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (4件)
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