特許
J-GLOBAL ID:200903088725101384

電極製造装置及び製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 小池 晃 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-262135
公開番号(公開出願番号):特開平11-102696
出願日: 1997年09月26日
公開日(公表日): 1999年04月13日
要約:
【要約】【課題】 本発明は、乾燥炉出口における急激な温度変化により、塗布膜が形成された金属箔表面に発生する皺を防止することを目的とする。【解決手段】 本発明の電極製造装置は、活物質を含有する塗料を走行する金属箔表面に塗布して塗布膜を形成する塗布手段と、上記塗布手段で形成された上記塗布膜を加熱乾燥する乾燥手段とを有し、上記乾燥手段は、金属箔進行方向に従って温度が上昇するとともに、終端部においては温度が低下するように温度設定されている。
請求項(抜粋):
活物質を含有する塗料を、走行する金属箔表面に塗布して塗布膜を形成する塗布手段と、上記塗布手段で形成された上記塗布膜を加熱乾燥する乾燥手段とを有し、上記乾燥手段は、金属箔進行方向に従って温度が上昇するとともに、終端部においては温度が低下するように温度設定されていることを特徴とする電極製造装置。
IPC (2件):
H01M 4/04 ,  H01M 10/40
FI (3件):
H01M 4/04 Z ,  H01M 4/04 A ,  H01M 10/40 Z

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