しわ改善剤及び角化改善剤

発明者： , , , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：有賀三幸 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-041324
公開番号（公開出願番号）：特開平7-017849
出願日： 1994年03月11日
公開日（公表日）： 1995年01月20日
要約：

【要約】 (修正有)【構成】一般式(1)又は(2)(式中、R1 はヘテロ原子を含んでいてもよい、鎖C1 〜C40の炭化水素基を、R2 ,R3 はC1 〜C3 の2価の炭化水素基を、R4 は水素又はC1 〜C3 の炭化水素基を、R5 は水素原子、C1 〜C3 の炭化水素基又は-P(O)(OH)2 を、R6 は水素原子又は1個以上の水酸基を有していてもよいC1 〜C3 の炭化水素基を、R7 ,R8 は1〜3個の水酸基を有していてもよいC1 〜C3 の炭化水素基を、Yは水酸基、アルコキシ基、リン酸基、カルボキシル基等の基を1個以上有するC1 〜C10の炭化水素基を示す)で表わされるアミン誘導体からなるしわ改善剤又は角化改善剤。【効果】しわの発生抑制及び消滅作用に優れるとともに不全角化、表皮肥厚、脂質代謝異常に対し抑制作用を有する。

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)又は(2):【化1】〔式中、R1 はヘテロ原子を含んでいてもよい、炭素数1〜40の直鎖、分岐鎖又は環状の炭化水素基を示し、R2 及びR3 はそれぞれ炭素数1〜3の2価の炭化水素基を示し、R4 は水素原子又は炭素数1〜3の炭化水素基を示し、R5 は水素原子、炭素数1〜3の炭化水素基又は【化2】を示し、R6 は水素原子又は1若しくは2以上の水酸基を有していてもよい炭素数1〜10の炭化水素基を示し、R7 及びR8 はそれぞれ1〜3個の水酸基を有していてもよい炭素数1〜3の炭化水素基を示し、Yは水酸基、アルコキシ基、、ヒドロキシアルキルオキシ基、リン酸残基、カルボキシル基及びアルコキシカルボニル基からなる群より選ばれる1又は2以上の基を有する炭素数1〜10の炭化水素基を示す。但し、式(1)において、R2 とR3 がともに-CH2- 、R4 とR5 がともに水素原子、かつYが式(a)【化3】(式中、R9 、R10、R11、R12はR6 と同義である)である場合を除く〕で表わされるアミン誘導体からなるしわ改善剤。

IPC (6件)：

A61K 7/48 , A61K 7/00 , A61K 31/13 , A61K 31/195 ADA , A61K 31/22 , A61K 31/66

引用特許：

審査官引用 (3件)

特開昭61-093822
特開昭62-014934
特開昭54-163829

前のページに戻る