特許
J-GLOBAL ID：200903088733970561
マイクロ波プラズマ放電による水素ガスを製造する装置および方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
八田国際特許業務法人
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-512216
公開番号（公開出願番号）：特表2008-545603
出願日： 2006年05月16日
公開日（公表日）： 2008年12月18日
要約：
本発明は、水素ガスの製造装置および方法に関するものである。本発明の水素ガス製造装置は、a)誘電性中空管;b)前記誘電性中空管を減圧に維持するための手段;c)マイクロ波を発生するマイクロ波源;d)前記マイクロ波を前記誘電性中空管に印加するマイクロ波源に連結される導波管;e)前記誘電性中空管に供給される水素元素含有ガスは前記導波管からのマイクロ波によりプラズマ放電されて、プラズマ放電によって生じる電子の水素元素含有ガスとの衝突によって、熱分解ではなくむしろ分子内結合切断により水素ガスを含む反応生成物を生成する、水素元素含有ガスを前記誘電性中空管に供給するガス供給源;およびf)水素ガスを前記反応生成物から分離するセパレータを有する。本水素ガス製造装置は、簡単な構造を有し、簡単にかつ効率的に少量の水素ガスを製造する。
請求項（抜粋）：
a)誘電性中空管;
b)前記誘電性中空管を減圧に維持するための手段;
c)マイクロ波を発生するマイクロ波源;
d)前記マイクロ波を前記誘電性中空管に印加するマイクロ波源に連結される導波管;
e)前記誘電性中空管に供給される水素元素含有ガスは前記導波管からのマイクロ波によりプラズマ放電されて、マイクロ波プラズマ放電によって生じる電子の水素元素含有ガスとの衝突によって、熱分解ではなくむしろ分子内結合切断により水素ガスを含む反応生成物を生成する、水素元素含有ガスを前記誘電性中空管に供給するガス供給源;および
f)水素ガスを前記反応生成物から分離するセパレータ
を有する、マイクロ波プラズマ放電による水素ガス製造装置。
IPC (4件)：
C01B 3/24
, C01B 3/04
, B01J 19/08
, H05H 1/30
C01B3/24
, C01B3/04 Z
, B01J19/08 E
, H05H1/30
4G075AA05
, 4G075BA05
, 4G075BB04
, 4G075CA05
, 4G075CA26
, 4G075CA47
, 4G075DA02
, 4G075EB21
, 4G075FA14
, 4G075FC15
, 4G140DA03
, 4G140DB04
