特許
J-GLOBAL ID:200903088734848280
ガス検出方法及びガス検出装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
塩入 明 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-321080
公開番号(公開出願番号):特開平9-138209
出願日: 1995年11月14日
公開日(公表日): 1997年05月27日
要約:
【要約】【構成】 基板上にヒータ膜と絶縁ガラスと金属酸化物半導体膜を積層し、ヒータ膜にヒータパルスを加えて駆動し、金属酸化物半導体膜を加熱する。金属酸化物半導体膜にはヒータパルスに同期した検出電圧を加え、これ以外の期間は検出電圧を加えない。【効果】 ヒータパルスを加えない期間にガスセンサは室温付近まで放冷し、絶縁ガラスからMgイオン等が吸着水に溶出する。溶出したMgイオン等が検出電圧で陰極に偏析するのを防止し、パルス駆動型ガスセンサの劣化を防止する。
請求項(抜粋):
基板上にヒータ膜と金属酸化物半導体膜とを配置したガスセンサを用い、前記ヒータ膜をパルス的に発熱させるようにしたガス検出方法において、前記金属酸化物半導体膜に負荷抵抗を直列に接続し、かつ金属酸化物半導体膜と負荷抵抗の直列片に、ヒータ膜の発熱と同期した検出電圧を加えるようにしたことを特徴とするガス検出方法。
IPC (2件):
FI (3件):
G01N 27/12 B
, G01N 27/12 D
, G01N 27/04 F
引用特許:
審査官引用 (4件)
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特開平1-313751
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特開平1-206252
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ガス検出装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-307573
出願人:フィガロ技研株式会社
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