環境モニタ方法及び装置並びに半導体製造装置

発明者： ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：北野好人 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-367291
公開番号（公開出願番号）：特開2002-168776
出願日： 2000年12月01日
公開日（公表日）： 2002年06月14日
要約：

【要約】【課題】雰囲気中に存在する汚染物質を、簡便に、素早く、且つ、低コストで検知し、測定結果を環境管理にフィードバックしうる環境モニタ方法及び装置、並びに、このような環境モニタ装置を備えた半導体製造装置を提供する。【解決手段】所定の雰囲気10中に載置された赤外透過基板12と、赤外透過基板12に赤外線を入射する赤外光源20と、赤外透過基板12内部を多重反射した後に赤外透過基板12より出射される赤外線に基づいて、雰囲気10中の汚染物質の濃度を算出する汚染物質分析手段30と、汚染物質分析手段30により算出した雰囲気10中の汚染物質の濃度に応じて、雰囲気10中の汚染物質を除去する汚染物質除去手段50とを有する。

請求項（抜粋）：

所定の雰囲気中に置かれた赤外透過基板内に赤外線を入射し、前記赤外透過基板の内部を多重反射した後に前記赤外透過基板より出射される赤外線を検出し、検出した赤外線に基づいて、前記雰囲気中の汚染物質の濃度を測定し、測定した前記雰囲気中の汚染物質の濃度に基づいて、前記雰囲気を管理することを特徴とする環境モニタ方法。

IPC (6件)：

G01N 21/35 , G01N 1/22 , G01N 21/27 , G01N 21/39 , G01N 33/00 , H01L 21/02

FI (6件)：

G01N 21/35 Z , G01N 1/22 L , G01N 21/27 C , G01N 21/39 , G01N 33/00 A , H01L 21/02 D

Fターム (37件)：

2G052AA02 , 2G052AA03 , 2G052AB07 , 2G052AB08 , 2G052AB11 , 2G052AC13 , 2G052AD02 , 2G052BA02 , 2G052GA11 , 2G052HB07 , 2G052JA06 , 2G052JA07 , 2G059AA01 , 2G059AA05 , 2G059BB01 , 2G059BB16 , 2G059CC19 , 2G059DD16 , 2G059EE01 , 2G059EE02 , 2G059EE11 , 2G059EE12 , 2G059GG00 , 2G059GG01 , 2G059GG02 , 2G059GG09 , 2G059HH01 , 2G059HH06 , 2G059JJ01 , 2G059JJ02 , 2G059JJ24 , 2G059KK01 , 2G059MM01 , 2G059MM09 , 2G059MM10 , 2G059MM12 , 2G059PP04

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