特許
J-GLOBAL ID：200903088773514887
修正用マスク及びハーフトーン位相シフトマスクの修正方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
柏谷 昭司 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-080708
公開番号（公開出願番号）：特開平10-274839
出願日： 1997年03月31日
公開日（公表日）： 1998年10月13日
要約：
【要約】【課題】 修正用マスク及びハーフトーン位相シフトマスクの修正方法に関し、一回の修正作業によって複数箇所の欠陥を修正する。【解決手段】 透明基板1上に、被修正用のハーフトーン位相シフトマスク4のデバイス領域8が透光領域となるように、デバイス領域8に対応する領域以外の領域に遮光膜3を設けた修正用マスク1を用いて遮光膜残渣10を除去する。
請求項（抜粋）：
透明基板上に、被修正用のハーフトーン位相シフトマスクのデバイス領域が透光領域となるように、前記デバイス領域に対応する領域以外の領域に遮光膜を設けたことを特徴とする修正用マスク。
IPC (2件)：
FI (6件)：
G03F 1/08 G
, G03F 1/08 A
, G03F 1/08 T
, H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 502 W
, H01L 21/30 528
