特許
J-GLOBAL ID：200903088773861528
位相シフトマスク及びその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
曾我 道照 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-052635
公開番号（公開出願番号）：特開平5-257263
出願日： 1992年03月11日
公開日（公表日）： 1993年10月08日
要約：
【要約】【構成】 位相シフトマスクの構造を、あらかじめガラス基板1上の全面に光転写法で遮光効果のある碁盤目状のシフター膜パターン2を形成し、この上に遮光効果を消去するポリマー膜6のパターンを電子線露光法で形成するものである。【効果】 電子線露光で、遮光効果となる碁盤目状パターンを形成する必要がなくなるので、電子線露光の時間を短縮でき、マスク製造の処理能力を向上することができる。
請求項（抜粋）：
ガラス基板上の全面に形成され遮光効果のある位相差180度の周期的なシフター膜パターン、及び前記シフター膜パターンの上に形成され前記遮光効果を消去する透明膜パターンを備えたことを特徴とする位相シフトマスク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 301 P
, H01L 21/30 311 W
