特許
J-GLOBAL ID：200903088780440430
レジスト剥離剤組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-235926
公開番号（公開出願番号）：特開平11-084686
出願日： 1997年09月01日
公開日（公表日）： 1999年03月26日
要約：
【要約】【課題】無機質基体上に塗布されたフォトレジスト膜、または無機質基体上に塗布されたフォトレジスト膜をドライエッチング後に残存するフォトレジスト層等を、低温でかつ短時間に容易に剥離でき、その際配線材料を全く腐食せずに超微細加工が可能であり、高精度の回路配線を製造できるようなレジスト剥離剤組成物を提供する。【解決手段】第4級アンモニウム水酸化物と、水溶性アミンと、アルキルピロリドンとからなるレジスト剥離剤組成物。
請求項（抜粋）：
第四級アンモニウム水酸化物と、水溶性アミンと、アルキルピロリドンとからなることを特徴とするレジスト剥離剤組成物。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F 7/42
, H01L 21/30 572 B
