特許
J-GLOBAL ID：200903088787905684
揮発性有機ハロゲン化合物の処理方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
重野 剛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-005784
公開番号（公開出願番号）：特開平7-204625
出願日： 1994年01月24日
公開日（公表日）： 1995年08月08日
要約：
【要約】【目的】 揮発性有機ハロゲン化合物含有水を放散塔で処理して揮発性有機ハロゲン化合物を含む放散ガスを得、この放散ガスを接触還元処理して処理ガスを放散塔へ返送する揮発性有機ハロゲン化合物の処理方法において、副生するハロゲン化水素によるpH低下及び系内の圧力低下を防止する。【構成】 金属触媒充填塔5の排出ガスを脱ハロゲン化水素処理(7)した後、放散塔2に返送する。放散ガスの循環系に調圧手段8を設ける。【効果】 放散塔にはハロゲン化水素が除去された後のガスが循環されるようになり、放散塔内の被放散水のpHの低下は防止される。ガス量の低減による系内の圧力低下は防止され、圧力は一定に保たれる。揮発性有機ハロゲン化合物を安定かつ効率的に無害化処理することができる。
請求項（抜粋）：
揮発性有機ハロゲン化合物含有水を放散塔で処理して前記ハロゲン化合物を含む放散ガスを得、該放散ガスを水素ガスと共に金属触媒充填塔に通気して前記ハロゲン化合物を分解し、該充填塔の排出ガスを前記放散塔に返送する揮発性有機ハロゲン化合物の処理方法において、該充填塔の排出ガスを脱ハロゲン化水素処理した後、前記放散塔に返送すると共に、放散ガスの循環系に調圧手段を設けることを特徴とする揮発性有機ハロゲン化合物の処理方法。
IPC (2件)：
C02F 1/20 ZAB
, B01D 19/00 ZAB
