特許
J-GLOBAL ID：200903088791454727
レジスト膜硬化装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井桁 貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-003470
公開番号（公開出願番号）：特開平5-190444
出願日： 1992年01月13日
公開日（公表日）： 1993年07月30日
要約：
【要約】【目的】 レジスト膜硬化装置に関し,硬化装置の処理能力を低減させないで,レジスト膜の表面のみが先に硬化しないようにして,レジストマスクの耐プラズマ性,耐熱性を向上させることを目的とする。【構成】 1)フォトレジスト膜を被着したウエハ(5) を内部に載置し且つ排気可能な処理室(4)と,ウエハ表面に紫外線を照射する光源(1) と,該光源とウエハ間に設けられた開閉可能なルーバ(2) と,該ルーバの開閉角度を任意に変えるルーバ駆動部(3)とを有する,2)前記ルーバの光源に面する表面に紫外線を吸収する樹脂材料を貼りつけている,3)前記ウエハ表面の紫外線照度を測定するモニタを有するように構成する。
請求項（抜粋）：
フォトレジスト膜を被着したウエハ(5) を内部に載置し且つ排気可能な処理室(4)と,ウエハ表面に紫外線を照射する光源(1) と,該光源とウエハ間に設けられた開閉可能なルーバ(2) と,該ルーバの開閉角度を任意に変えるルーバ駆動部(3)とを有することを特徴とするレジスト膜硬化装置。
引用特許：
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