特許
J-GLOBAL ID：200903088795762973
微粒子の製造方法、及び製造装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
長谷川 芳樹
, 寺崎 史朗
, 石田 悟
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-207798
公開番号（公開出願番号）：特開2006-026503
出願日： 2004年07月14日
公開日（公表日）： 2006年02月02日
要約：
【課題】 所望のサイズへの物質の微粒子化処理を効率良く行うことが可能な微粒子の製造方法、及び製造装置を提供する。【解決手段】 溶媒4、及び物質の原料粒子5からなる被処理液2を収容する処理チャンバ3と、互いに異なる波長のレーザ光を供給する複数のレーザ光源11〜14を有するレーザ光照射装置10と、照射装置10から被処理液2へのレーザ光の照射を制御するレーザ光制御部25を有する制御装置20とによって製造装置1Aを構成する。そして、被処理液2に対して波長λYのレーザ光を照射して物質の粗破砕を行い、続いて、λYよりも短い波長λXのレーザ光を照射して本破砕を行う2段階のレーザ光照射により、所望のサイズの物質の微粒子を生成する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
物質を光照射で微粒子化して、その微粒子を製造する製造方法であって、
微粒子化対象の前記物質に対して波長λYのレーザ光を照射することによって前記物質の粗破砕を行う粗破砕ステップと、
粗破砕された前記物質に対してλYよりも短い波長λXのレーザ光を照射することによって前記物質の本破砕を行って、その微粒子を生成する本破砕ステップと
を備えることを特徴とする微粒子の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
B02C19/18 C
, B01J19/12 H
4D067CG06
, 4D067EE50
, 4D067FF02
, 4D067FF15
, 4D067GA20
, 4G075AA27
, 4G075AA61
, 4G075BB10
, 4G075CA36
, 4G075DA02
, 4G075EB01
, 4G075EB31
