特許
J-GLOBAL ID：200903088800334047
サイドウォール及びその形成方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山口 邦夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-074846
公開番号（公開出願番号）：特開平6-291200
出願日： 1993年03月31日
公開日（公表日）： 1994年10月18日
要約：
【要約】【目的】配線時にポリシリコン等の配線材料がパターニングの際、残渣しないように順テーパー形状を有するサイドウォール及びその製造方法を提供する。【構成】パターニングされた1層以上からなる所定の膜3、4に形成されるサイドウォールにおいて、上記サイドウォールが2層以上の多層膜5a、6bから構成され、上記パターニングされた1層以上からなる所定の膜の側面から外側に、上記多層膜5a、5bが下降階段状である。
請求項（抜粋）：
パターニングされた1層以上からなる所定の膜に形成されるサイドウォールにおいて、前記サイドウォールが2層以上の多層膜から構成され、前記パターニングされた1層以上からなる所定の膜の側面から外側に、前記多層膜が下降階段状になることを特徴とするサイドウォール。
IPC (2件)：
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