特許
J-GLOBAL ID:200903088811214825

二重床真空圧力スゥイング吸着システムのための回転弁

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 倉内 基弘 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-327929
公開番号(公開出願番号):特開2000-153125
出願日: 1999年11月18日
公開日(公表日): 2000年06月06日
要約:
【要約】【課題】 空気のような流体から所望の成分、例えば窒素を選択的に除去するための、使用弁数の少ないシステムを提供することである。【解決手段】 空気送給ライン92が回転弁アセンブリ200の通路206bに結合され、回転プラグ202bが回転して流れポートHに結合すると送給空気がチャンバ床A110に送られる。送給空気はマニホルド222から配管65を通してチャンバ床Aに入る。回転プラグ202bが回転して流れポートJと結合すると送給空気はマニホルド224に送られた後、配管81を通してチャンバ床B109に送られ、窒素が除去される。チャンバ床B109は、マニホルド224、流れポートF、真空源に結合した通路206a、配管61、第1及び第2ステージの各真空ポンプ102、103を通して真空排気が実行されることにより真空パージされる。
請求項(抜粋):
流体混合物から単数あるいは複数の成分を分離するための装置であって、第1の圧力下の流体源と、第1の圧力と異なる第2の圧力下の流体源と、前記流体から1つの成分を選択的に吸着するための吸着材を含む少なくとも1つのチャンバと、第1の流路により前記第1の圧力下の流体に、第2の流路によって前記第2の圧力下の流体に、第1の流れポートによって前記チャンバに、第2の流れポートによって通気口に、夫々作動結合された弁にして、第1の流路及び第2の流路を選択した流れポートに同時に相互結合する複数の位置を有し、該複数の位置における第1の位置では前記第1の流路あるいは第2の流路を前記第1の流れポートに結合して第1の圧力下の流体あるいは第2の圧力下の流体と前記チャンバとの間に流れを提供し、第2の位置では前記第1の流路あるいは第2の流路と第2の流れポートとを結合して第1の圧力下の流体あるいは第2の圧力下の流体と前記通気口との間に流れを提供するようになっている弁と、を含む流体混合物から単数あるいは複数の成分を分離するための装置。
IPC (3件):
B01D 53/04 ,  C01B 13/02 ,  C01B 21/04
FI (3件):
B01D 53/04 E ,  C01B 13/02 A ,  C01B 21/04 G

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