特許
J-GLOBAL ID:200903088842534410

成膜装置の基板搬送装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 光石 俊郎 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-251249
公開番号(公開出願番号):特開平5-090380
出願日: 1991年09月30日
公開日(公表日): 1993年04月09日
要約:
【要約】【目的】 例えばプラズマCVD装置,スパッタリング装置などの真空中で薄膜を形成する真空容器内へ例えばガラス,シリコンウエハー基板等を搬送する成膜装置の基板搬送装置を提供する。【構成】 加熱ヒータ及び電極を用いて基板に成膜を施す真空容器内に該基板を自動搬送する装置において、真空容器11内で基板15を加熱ヒータ12及び電極と平行なX軸方向に搬送する基板搬送台車21と、該基板15をX軸方向と直交するZ軸方向に昇降させる台車リフター18と、基板15に成膜処理を施す設定位置までX軸及びZ軸と直交するY軸方向に移動するポジショナー13とを具備してなり、且つ基板15を縦置にして搬送する際、X軸,Y軸及びZ軸の各軸方向への移動を独立して行う。これにより従来の基板ホルダーを使用することなく、且つ真空容器11内への不純物の混入を抑え、処理時間の短縮が図れる。
請求項(抜粋):
加熱ヒータ及び電極を用いて基板に成膜を施す真空容器内に該基板を自動搬送する装置において、真空容器内で基板を加熱ヒータ及び電極と平行なX軸方向に搬送する基板搬送台車と、該基板をX軸方向と直交するZ軸方向に昇降させる台車リフターと、基板に成膜処理を施す設定位置までX軸及びZ軸と直交するY軸方向に移動するポジショナーとを具備してなり、且つ基板を縦置にして搬送する際、X軸,Y軸及びZ軸の各軸方向への移動を独立して行うことを特徴とする成膜装置の基板搬送装置。
IPC (2件):
H01L 21/68 ,  B01J 19/00

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