特許

J-GLOBAL ID：200903088843210740

ゼオライト膜の合成方法

発明者： 山村 忠史 ,  行武 知美 ,  森上 好雄
出願人/特許権者： 三井造船株式会社
代理人 (1件)： 石井 博樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-290704
公開番号（公開出願番号）：特開2004-123457
出願日： 2002年10月03日
公開日（公表日）： 2004年04月22日
要約：

【課題】本発明の課題は、簡単な手順で支持体表面処理が可能なゼオライト膜の合成方法を提供することにある。【解決手段】ゼオライト膜形成用支持体に表面処理をする支持体表面処理工程の後、ゼオライト膜を形成させるゼオライト膜成膜工程を含むゼオライト膜の合成方法において、前記支持体表面処理工程は、前記ゼオライト膜形成用支持体に対して超音波を付与することを特徴とする。本発明によれば、浸食作用によって支持体表面に付着している不要物を取り除くとともに、支持体表面の壊れやすい箇所を浸食して新たな表面を現させることができる。また、当該支持体表面の細孔径及び粗度を調整することが可能である。また、作業が容易であり、支持体の表面処理を効率よく行うことができるため大量処理に適しているとともに、支持体表面処理に有する消耗材の消費量を大幅に低減できる。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

ゼオライト膜形成用支持体に表面処理をする支持体表面処理工程の後、ゼオライト膜を形成させるゼオライト膜成膜工程を含むゼオライト膜の合成方法において、 前記支持体表面処理工程は、前記ゼオライト膜形成用支持体に対して超音波を付与することを特徴とする、ゼオライト膜の合成方法。

IPC (4件)：

C01B39/00 ,  B01D67/00 ,  B01D69/10 ,  B01D71/02

FI (4件)：

C01B39/00 ,  B01D67/00 ,  B01D69/10 ,  B01D71/02

Fターム (36件)：

4D006GA25 ,  4D006HA26 ,  4D006JA53A ,  4D006JA63A ,  4D006JA66A ,  4D006JA67A ,  4D006KC19 ,  4D006LA06 ,  4D006MA02 ,  4D006MA09 ,  4D006MB01 ,  4D006MB09 ,  4D006MC03 ,  4D006NA45 ,  4D006NA49 ,  4D006NA50 ,  4D006PA01 ,  4D006PB14 ,  4D006PB32 ,  4D006PC01 ,  4G073BD06 ,  4G073BD07 ,  4G073BD18 ,  4G073CZ02 ,  4G073CZ05 ,  4G073CZ09 ,  4G073FB11 ,  4G073FB19 ,  4G073FB24 ,  4G073FB26 ,  4G073FC12 ,  4G073FC25 ,  4G073FC28 ,  4G073GA40 ,  4G073UA06 ,  4G073UB26