特許
J-GLOBAL ID:200903088843811396

ジメチルエーテルの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 田中 政浩
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-354122
公開番号(公開出願番号):特開2002-155004
出願日: 2000年11月21日
公開日(公表日): 2002年05月28日
要約:
【要約】【課題】 製鉄所副生ガス等を原料としてジメチルエーテルを安定して製造できる方法を提供する。【解決手段】 上記課題は、水素ガス50〜65モル%及びメタンガス20〜35モル%を含有するガスAと、一酸化炭素ガスを50モル%以上含有するガスBを混合したガスを、溶媒にスラリー状に懸濁させた触媒と接触させてジメチルエーテルを製造する方法において、前記ガスAを予め炭酸ガス又は水蒸気で改質して水素ガス濃度を高めるとともにメタンガス濃度を低下させることを特徴とするジメチルエーテルの製造方法によって解決される。
請求項(抜粋):
水素ガス50〜65モル%及びメタンガス20〜35モル%を含有するガスAと、一酸化炭素ガスを50モル%以上含有するガスBを混合したガスを、溶媒にスラリー状に懸濁させた触媒と接触させてジメチルエーテルを製造する方法において、前記ガスAを予め炭酸ガス又は水蒸気で改質して水素ガス濃度を高めるとともにメタンガス濃度を低下させることを特徴とするジメチルエーテルの製造方法
IPC (3件):
C07C 41/01 ,  C07C 43/04 ,  C07B 61/00 300
FI (3件):
C07C 41/01 ,  C07C 43/04 D ,  C07B 61/00 300
Fターム (19件):
4H006AA02 ,  4H006AC43 ,  4H006BA02 ,  4H006BA21 ,  4H006BA30 ,  4H006BB11 ,  4H006BB12 ,  4H006BB14 ,  4H006BB15 ,  4H006BB16 ,  4H006BB17 ,  4H006BD10 ,  4H006BE20 ,  4H006BE40 ,  4H006GN01 ,  4H006GP01 ,  4H006GP30 ,  4H039CA61 ,  4H039CL35
引用特許:
審査官引用 (4件)
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