特許
J-GLOBAL ID：200903088851273999
水素製造方法および装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐藤 正年 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-020026
公開番号（公開出願番号）：特開2001-213609
出願日： 2000年01月28日
公開日（公表日）： 2001年08月07日
要約：
【要約】【課題】 水素ガスの生成を阻害する原因となるケイ酸イオンのゲル化を回避して効率よく水素を製造できる方法および装置の提供。また連続的に水素の定量供給ができる実用に適した水素の製造方法および装置の提供。【解決手段】 予め粉体ケイ素を水と混合してスラリー状態とし、このケイ素スラリー粉体とアルカリ液とを反応容器に供給して反応容器内で加温下に接触反応させることにより水素を発生させる。
請求項（抜粋）：
粉体ケイ素とアルカリ液とを反応容器に供給して反応容器内で加温下に接触反応させることにより水素を発生させる水素製造方法において、予め粉体ケイ素を水と混合してスラリー状態とし、このケイ素スラリーを反応容器に供給することを特徴とする水素製造方法。
引用特許：
出願人引用 (3件)
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特公昭49-004637
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特公昭49-020878
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特開昭59-045901
審査官引用 (9件)
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