特許
J-GLOBAL ID：200903088853726621
ピストンリング
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
重野 剛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-118465
公開番号（公開出願番号）：特開平8-312780
出願日： 1995年05月17日
公開日（公表日）： 1996年11月26日
要約：
【要約】【目的】 耐摩耗性向上のためにセラミックス又はセラミックスと金属との混合物よりなる溶射被膜を形成したピストンリングにおいて、偏当たりによる異常摩耗を防止して、耐摩耗性をより一層高める。【構成】 溶射被膜の上にニッケルを含むメッキ被膜を形成する。【効果】 Ni系メッキ被膜を形成することにより、使用初期の偏当たりが防止され、なじみ性が改善されて、使用中の摺動面が平滑面となり、異常摩耗が防止される。
請求項（抜粋）：
摺動面にセラミックス溶射被膜又はセラミックスと金属との混合溶射被膜を形成してなるピストンリングにおいて、該溶射被膜上に、ニッケルを含むメッキ被膜を形成したことを特徴とするピストンリング。
IPC (2件)：
FI (3件)：
F16J 9/26 D
, F16J 9/26 C
, F02F 5/00 G
