特許
J-GLOBAL ID：200903088858109850
投影露光装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-349162
公開番号（公開出願番号）：特開平5-267124
出願日： 1992年12月28日
公開日（公表日）： 1993年10月15日
要約：
【要約】【目的】 フィルタの交換を要することなく、転写する層,転写したいパターン種,パターンサイズに最適なフィルタ形状(光源形状)を実現することができ、パターン転写の効率向上をはかり得る投影露光装置を提供すること。【構成】 光源1からの光を集光する第1集光光学系と、集光された光を均一化する均一化光学系と、均一化された光を集光してマスク8に照射する第2集光光学系と、マスク8を透過した光をウェハ15上に投影する投影光学系14とを具備し、マスク8に形成されたパターンを投影光学系14を介してウェハ15上に投影露光する投影露光装置において、マスク8を照明する均一化光学系の出射側の2次光源位置に、電気的制御によって開閉する液晶シャッタを2次元に配置してなる2次光源形成フィルタを設け、該フィルタの制御によって2次光源の強度分布を最適形状に設定することを特徴とする。
請求項（抜粋）：
マスクに形成されたパターンを投影光学系を介してウェハ上に投影露光する投影露光装置において、前記マスクを照明する2次光源位置又は該マスクの像を転写する投影光学系の瞳位置の少なくとも一方に、電気的制御によって透過光量を変化させる微細シャッタを2次元に配置してなるフィルタを設け、該フィルタの制御により2次光源の強度分布又は瞳の透過率分布を任意の形状に設定することを特徴とする投影露光装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
H01L 21/30 311 S
, H01L 21/30 311 L
