基板におけるパターンの良否識別方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：石井暁夫 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-156918
公開番号（公開出願番号）：特開平8-021802
出願日： 1994年07月08日
公開日（公表日）： 1996年01月23日
要約：

【要約】【目的】絶縁基板A等の基板に一定の間隔ピッチで同じ形状で多数個形成されている抵抗体パターンA2等のパターンにおける形状等の良否を、能率良く識別する。【構成】基板の表面を、当該表面に一定の間隔ピッチで形成されている多数個のパターンのうち複数個のパターンを含む複数の領域部分に分け、この各領域部分のうち任意の一つの領域部分(X1-Y1)における撮影画像を処理して得た処理データ画面7と、前記各領域部分のうち他の一つの領域部分(X2-Y2)における撮影画像を処理して得た処理データ画面8とを比較して、その相違点を検出することを、前記全ての領域部分について行う。

請求項（抜粋）：

基板の表面を、当該表面に一定の間隔ピッチで形成されている多数個のパターンのうち複数個のパターンを含む複数の領域部分に分け、この各領域部分のうち任意の一つの領域部分における撮影画像を処理して得た処理データ画面と、前記各領域部分のうち他の一つの領域部分における撮影画像を処理して得た処理データ画面とを比較して、その相違点を検出することを、前記全ての領域部分について行うことを特徴とする基板におけるパターンの良否識別方法。

IPC (4件)：

G01N 21/88 , G01B 11/24 , G01R 31/02 , H05K 3/00

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開平3-102846
特開平3-232250
特開平3-102846

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