特許

J-GLOBAL ID：200903088887306443

プロキシミティ露光装置

発明者： 小塚 敏幸 ,  児玉 正吉 ,  楡井 享司 ,  高見 重博 ,  関 一政 ,  峯岸 学
出願人/特許権者： 日立電子エンジニアリング株式会社
代理人 (1件)： 飯塚 義仁
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-227173
公開番号（公開出願番号）：特開平11-052583
出願日： 1997年08月08日
公開日（公表日）： 1999年02月26日
要約：

【要約】【課題】 フォトマスクよりも大きなサイズのガラス基板に対してプロキシミティ露光を行えるようにする。【解決手段】 マスクホルダを、フォトマスクの外周形状における1組の対辺部分の上面側をそれぞれ吸着する吸着窓を有する上面マスクホルダと、フォトマスクの外周形状における他の1組の対辺部分の下面側をそれぞれ吸着する吸着窓を有する下面マスクホルダとで構成する。移動手段は上面マスクホルダの吸着窓によって吸着保持される1組の対辺部分の対向方向に沿って露光チャック及びガラス基板を移動する。露光シャッタ手段は、フォトマスクの一部にプロキシミティ露光時の光線が照射しないように遮光する。フォトマスクの面積よりも大きなガラス基板に対して露光を行う場合には、1回目の露光を行った後に、移動手段でガラス基板及び露光チャックを移動し、1回目に露光された部分に対応するフォトマスクの一部を露光シャッタで遮光してから2回目の露光を行う。これによって、ガラス基板全面にフォトマスクによるパターンを形成することができる。

請求項（抜粋）：

マスクホルダに保持されたフォトマスク面と露光チャックに保持されたガラス基板面との間に形成されるギャップを所定のギャップとなるようにプロキシミティギャップ制御を行ってから露光を行うプロキシミティ露光装置において、前記マスクホルダを前記フォトマスクの上面側で吸着する吸着窓を有する上面マスクホルダと前記フォトマスクの下面側で吸着する吸着窓を有する下面マスクホルダとで構成し、前記上面マスクホルダと前記下面マスクホルダの両方の吸着窓によって前記フォトマスクの外周形状に沿った部分を吸着保持するようにしたことを特徴とするプロキシミティ露光装置。

IPC (3件)：

G03F 7/20 521 ,  G02F 1/13 101 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 7/20 521 ,  G02F 1/13 101 ,  H01L 21/30 511

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 大サイズ基板用露光装置および露光方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-303389   出願人：大日本印刷株式会社