特許
J-GLOBAL ID：200903088912407918
イオンプレーティング装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
後藤 洋介 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-270972
公開番号（公開出願番号）：特開平8-134636
出願日： 1994年11月04日
公開日（公表日）： 1996年05月28日
要約：
【要約】【目的】 イオンプレーティング装置において、蒸着材料を連続的に供給してしかもハースにプラズマビームを安定して入射するとともに成膜速度を一定に制御する。【構成】 ハース29の外周には環状の永久磁石を有する磁石ケース31が備えられており、ハースには所定の方向(上下方向)に延びる貫通孔29cが形成されている。そして、材料供給機構36は貫通孔に蒸着材料39を供給するとともに予め設定された成膜条件に基づいて蒸着材料を上記の所定の方向に沿って移動する。
請求項（抜粋）：
プラズマ源と、蒸着材料が配置されるハースとを有し、前記プラズマ源からのプラズマビームを前記ハースに導いて前記蒸着材料を蒸発させてイオン化してイオン化物質を生成して、該イオン化物質を基板の表面に付着させて膜を前記基板上に形成するイオンプレーティング装置において、前記ハースの外周には環状の永久磁石が配設され、前記ハースには所定の方向に延びる貫通孔が形成されており、さらに、前記貫通孔に前記蒸着材料を供給して予め設定された成膜条件に基づいて前記蒸着材料を前記所定の方向に沿って移動させる供給移動手段とを有することを特徴とするイオンプレーティング装置。
引用特許：
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