特許
J-GLOBAL ID:200903088926260910
光及びX線を用いる観察装置、露光装置及び露光方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
長谷川 芳樹 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-157436
公開番号(公開出願番号):特開2002-350111
出願日: 2001年05月25日
公開日(公表日): 2002年12月04日
要約:
【要約】【課題】 光が照射されることにより形成される像、及び、X線が照射されることにより形成される像のいずれも一つの撮像素子で観察することができ、かつ、その撮像素子にX線の撮像機能を必要としない、観察装置を提供すること。【解決手段】 回路基板となる基板15にX線5aを照射すると、シンチレータ膜19には、基板15の位置合わせマークの蛍光像が形成される。マスク基板17に可視光線21aを照射すると、シンチレータ膜19には、マスク基板17の位置合わせマークの投影像が形成される。CCDカメラ6により、これらの像を撮像する。
請求項(抜粋):
可視光線、紫外線及び赤外線のうち少なくともいずれか一つの光を観察対象物に照射する光照射手段と、X線を他の観察対象物に照射するX線照射手段と、前記光照射手段の光が前記観察対象物に照射された場合、前記観察対象物の投影像が形成され、前記X線照射手段のX線が前記他の観察対象物に照射された場合、前記他の観察対象物の蛍光像が形成される、シンチレータ膜と、一方の面及び他方の面を含み、前記シンチレータ膜を前記一方の面上に配置することにより前記シンチレータ膜を支持する透明部材と、前記他方の面を透過した前記投影像及び前記蛍光像を撮像する撮像手段と、を備えた、光及びX線を用いる観察装置。
IPC (7件):
G01B 11/00
, G01T 1/00
, G01T 1/20
, G03F 9/00
, G21K 5/00
, G21K 5/02
, H01L 21/027
FI (8件):
G01B 11/00 H
, G01T 1/00 B
, G01T 1/20 E
, G01T 1/20 K
, G03F 9/00
, G21K 5/00 R
, G21K 5/02 X
, H01L 21/30 507 L
Fターム (36件):
2F065AA03
, 2F065BB17
, 2F065BB24
, 2F065CC20
, 2F065DD02
, 2F065FF04
, 2F065GG00
, 2F065GG07
, 2F065GG21
, 2F065JJ03
, 2F065JJ26
, 2F065LL02
, 2F065PP12
, 2G088EE29
, 2G088FF02
, 2G088FF14
, 2G088GG15
, 2G088GG19
, 2G088GG20
, 2G088JJ05
, 2G088JJ24
, 2G088JJ25
, 2G088KK32
, 2G088KK35
, 2H097CA14
, 2H097CA15
, 2H097JA06
, 2H097KA03
, 2H097KA12
, 2H097KA13
, 2H097KA22
, 2H097LA10
, 5F046BA01
, 5F046FA06
, 5F046FA08
, 5F046FA10
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