特許
J-GLOBAL ID:200903088933078051
光酸発生剤、化学増幅レジスト組成物、およびそれを用いたパターン形成方法
発明者:
,
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
高橋 詔男 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-347900
公開番号(公開出願番号):特開2002-146333
出願日: 2000年11月15日
公開日(公表日): 2002年05月22日
要約:
【要約】【課題】 波長220nm以下の紫外光に対して透明性に優れ、光反応効率(光酸発生効率)が高い光酸発生剤、および解像性、パターン側壁の平滑性に優れた化学増幅レジスト組成物を提供する。【解決手段】下記一般式(I):【化1】で表されるスルホニウム塩化合物と、一般式(II):【化2】で表されるスルホニウム塩化合物を混合する。
請求項(抜粋):
一般式(I):【化1】(式中、R1、R2は、それぞれ独立に、直鎖状、分枝状、単環式、または橋かけ環式のアルキル基、あるいは、飽和炭素骨格を有して互いにつながり環を形成した基、または互いにつながり環を形成したオキソアルキレン基を表し、R3、R4、R5、およびR6は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜4のアルキル基、またはアルコキシ基を表し、Xは-CH2-、-C2H4-、または-OCH2-を表し、Y-は対イオン表す)で表されるスルホニウム塩化合物から選ばれる少なくとも1種のスルホニウム塩化合物と、一般式(II):【化2】(式中、R7はアルキレン基または2-オキソアルキレン基を表し、R8はオキソ基を有する直鎖状、分枝状、単環式、多環式あるいは橋かけ環式のアルキル基、または直鎖状、分枝状、単環式、多環式あるいは橋かけ環式のアルキル基を表し、R7、R8の少なくとも一方は、オキソ基を有するものとし、Y-、は対イオン表す)で表されるスルホニウム塩化合物から選ばれる少なくとも1種のスルホニウム塩化合物を含むことを特徴とする光酸発生剤。
IPC (11件):
C09K 3/00
, C07C381/12
, C07D311/22
, C07D333/46
, C07D335/02
, C08K 5/36
, C08L101/14
, G03F 7/004 503
, G03F 7/038 601
, G03F 7/039 601
, H01L 21/027
FI (11件):
C09K 3/00 K
, C07C381/12
, C07D311/22
, C07D333/46
, C07D335/02
, C08K 5/36
, C08L101/14
, G03F 7/004 503 A
, G03F 7/038 601
, G03F 7/039 601
, H01L 21/30 502 R
Fターム (22件):
2H025AA03
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC08
, 2H025AD01
, 2H025AD03
, 2H025BE07
, 2H025BE10
, 2H025BG00
, 2H025FA17
, 4C023JA05
, 4C062EE44
, 4H006AA03
, 4H006AB40
, 4H006AB81
, 4J002BG041
, 4J002BG051
, 4J002BG071
, 4J002EV296
, 4J002FD206
, 4J002GP03
, 4J002HA05
前のページに戻る