特許

J-GLOBAL ID：200903088935847532

薄膜製造装置及び薄膜の製造方法

発明者： 江口 和弘 ,  青山 知憲 ,  清利 正弘
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-353499
公開番号（公開出願番号）：特開平11-186245
出願日： 1997年12月22日
公開日（公表日）： 1999年07月09日
要約：

【要約】【課題】反応容器を支持するマニホールドの表面に、原料ガスが凝集することを防止する。【解決手段】マニホールド142には、加熱用のカートリッジヒータ201が複数個差し込まれ、また内部に配管202が組み込まれている。配管202内を温度制御されたシリコンオイルが循環する構造になっている。マニホールド142内壁の温度は、マニホールド142の内壁に熱電対204が取り付けられている。

請求項（抜粋）：

金属製のマニホールドと、このマニホールドによって支持された反応容器と、この反応容器の外部に設けられた外部ヒータと、前記反応容器内に,金属有機錯体の蒸気を含むガスを原料ガスとして導入する手段とを具備し、前記反応容器内に載置された被処理基板を前記外部ヒータによって加熱して化学的気相成長法による成膜を行う薄膜製造装置であって、前記マニホールドに対して加熱又は冷却を行い、該マニホールドの温度を調節する温度調節部を具備してなることを特徴とする薄膜製造装置。

IPC (3件)：

H01L 21/31 ,  C23C 16/46 ,  H01L 21/205

FI (3件)：

H01L 21/31 B ,  C23C 16/46 ,  H01L 21/205