特許
J-GLOBAL ID：200903088950192135
反射膜
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
阪本 善朗
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-253709
公開番号（公開出願番号）：特開平7-084105
出願日： 1993年09月16日
公開日（公表日）： 1995年03月31日
要約：
【要約】【目的】 反射膜の層数を増やすことなくレーザ耐力を向上させる。【構成】 基板1の表面1aにHfO2 のλ/8膜3とAl2 O3 のλ/8膜4を積層した不均質膜からなる高屈折率層2aとSiO2 の低屈折率層2bを交互に6層ずつ積層したうえで高屈折率層2aを表面層として積層して繰返し多層膜2からなる反射膜を設ける。HfO2 は高屈折率であるがレーザ光の入射側にあり、この部分では電界エネルギーの強度が低いために吸収が著しく増加するおそれはない。比較的吸収の少いAl2 O3 を電界エネルギー強度の高い部分に用いることで反射膜全体の吸収を低減しレーザ耐力を向上させる。
請求項（抜粋）：
基板の表面に交互に少くとも1層ずつ積層された高屈折率層と低屈折率層からなる多層膜を有し、前記高屈折率層が、前記基板の表面に向って屈折率が低くなるように構成された不均質膜であることを特徴とする反射膜。
IPC (3件)：
G02B 5/08
, C23C 14/08
, G02B 1/10
