特許
J-GLOBAL ID：200903088954695034
高速熱処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
稲垣 仁義
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-018402
公開番号（公開出願番号）：特開平8-191097
出願日： 1995年01月11日
公開日（公表日）： 1996年07月23日
要約：
【要約】【目的】この発明は、保持する治具による光照射の影をなくし、面内温度均一性を向上させ、均一性の優れた成膜を可能とする高速熱処理装置を提供することを目的とする。【構成】チャンバ内で処理基板を赤外線ランプで加熱処理する高速熱処理装置に於いて、下端部で処理基板1を直接若しくは基板ホルダ-を介して支持する基板保持具4と、該基板保持具の上端中央部に設けた回転軸30と、前記チャンバ下端部の外部に配設した赤外線ランプ12と、前記回転軸を回動自在にする手段とを具備する。
請求項（抜粋）：
チャンバ内で処理基板を赤外線ランプで加熱処理する高速熱処理装置に於いて、下端部で処理基板を直接若しくは基板ホルダ-を介して支持する基板保持具と、該基板保持具の上端中央部に設けた回転軸と、前記チャンバ下端部の外部に配設した赤外線ランプと、前記回転軸を回動自在にする手段とを具備したことを特徴とする高速熱処理装置。
IPC (2件)：
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