特許
J-GLOBAL ID：200903088983513603

超純水の製造方法

発明者：
田中 和男

田中 和男 について

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廣瀬 雅彦

廣瀬 雅彦 について

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河田 一郎

河田 一郎 について


出願人/特許権者：
日東電工株式会社

日東電工株式会社 について


代理人 (1件)： 松月 美勝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-349944
公開番号（公開出願番号）：特開平11-165170
出願日： 1997年12月03日
公開日（公表日）： 1999年06月22日
要約：
【要約】【課題】前処理された原水を一次純水システムで純水に仕上げ、更に、一次純水をユ-スポイントの要求に応じたグレ-ドの超純水にサブシステムで精製する超純水の製造方法において、有機物を効果的に除去してTOCを低減し、その結果逆浸透膜モジュ-ルの下流に設置された低圧UVランプの本数を低減でき、イオン交換樹脂の交換頻度を長くできる等、経済的なシステムを提供する。【解決手段】前処理した原水を、逆浸透膜モジュ-ルを備えた一次純水システムで純水に仕上げ、逆浸透膜モジュ-ル及び該逆浸透膜モジュ-ルの透過側に紫外線照射装置またはイオン交換装置の少なくとも何れかを備えたサブシステムで上記純水を超純水に精製する方法において、サブシステムの逆浸透膜モジュ-ルに、阻止性能が一次純水システムの逆浸透膜モジュ-ルの阻止性能よりも高いものを使用する。
請求項（抜粋）：
前処理した原水を、逆浸透膜モジュ-ルを備えた一次純水システムで純水に仕上げ、上記とは別箇の逆浸透膜モジュ-ル及び該逆浸透膜モジュ-ルの透過側に紫外線照射装置またはイオン交換装置の少なくとも何れかを備えたサブシステムで上記純水を超純水に精製する方法において、サブシステムの逆浸透膜モジュ-ルに、阻止性能が一次純水システムの逆浸透膜モジュ-ルの阻止性能よりも高いものを使用することを特徴とする超純水の製造方法。
IPC (3件)：
C02F 1/44 ,  C02F 1/32 ,  C02F 1/42
FI (3件)：
C02F 1/44 J ,  C02F 1/32 ,  C02F 1/42 A
引用特許：
審査官引用 (3件)

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