特許

J-GLOBAL ID：200903088988932825

荷電ビーム描画装置

発明者： 外岡 要治
出願人/特許権者： 日本電気株式会社
代理人 (1件)： 内原 晋
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-182848
公開番号（公開出願番号）：特開平5-029203
出願日： 1991年07月24日
公開日（公表日）： 1993年02月05日
要約：

【要約】【目的】試料面内の寸法ばらつきをショット時間をコントロールすることにより補正し、微細加工精度の向上を図る。【構成】ドーズ量変調ユニット3中に試料上の位置とドーズ量変調値との対応を規定するドーズ量変調テーブルを格納しておき、描画の際に変調テーブルに基づいて決定されたドーズ量変調値をショット時間コントローラ2に入力し、ショット時間をコントロールする。

請求項（抜粋）：

試料上の位置とドーズ量変調値との対応を規定するドーズ量変調テーブルを有するドーズ量変調ユニットを設け、ドーズ量変調値をショット時間コントローラに入力してショット時間をコントロールすることにより試料面内の寸法ばらつきを補正することを特徴とする荷電ビーム描画装置。