特許

J-GLOBAL ID：200903088989031368

ネガ型化学増幅系レジスト組成物

発明者： 小柳 敬夫 ,  北折 智之 ,  福永 誠規 ,  長澤 孝太郎
出願人/特許権者： 日本化薬株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-196777
公開番号（公開出願番号）：特開平7-036187
出願日： 1993年07月15日
公開日（公表日）： 1995年02月07日
要約：

【要約】【構成】(1)アルカリ水溶液可溶性樹脂、(2)酸触媒により架橋反応を起こす架橋剤、(3)放射線によって酸触媒を発生する光酸発生剤、及び(3)アジド基を有する化合物を含有するネガ型化学増幅系レジスト組成物。【効果】本発明のネガ型化学増幅系レジスト組成物は感度、解像性が極めて高く、得られた樹脂パターンは形状も優れているため半導体集積回路等の製造に極めて有用である。

請求項（抜粋）：

(1)アルカリ水溶液可溶性樹脂、(2)酸触媒により架橋反応を起こす架橋剤、(3)放射線によって酸触媒を発生する光酸発生剤、及び(4)アジド基を有する化合物を含有するネガ型化学増幅系レジスト組成物

IPC (6件)：

G03F 7/038 505 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/008 ,  G03F 7/023 511 ,  G03F 7/028 ,  H01L 21/027