特許
J-GLOBAL ID：200903088997003209
エキシマレ-ザアニ-ル装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
阪本 清孝 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-231575
公開番号（公開出願番号）：特開平6-061172
出願日： 1992年08月07日
公開日（公表日）： 1994年03月04日
要約：
【要約】【目的】 簡易な構造でエネルギ-の異なるレ-ザ光を一度の照射作業で照射できるエキシマレ-ザアニ-ル装置を提供する。【構成】 ホモジナイザ2から出力されたレ-ザ光の一部はビ-ムスプリッタ-8によって分岐され、この分岐されたビ-ム光は反射鏡9によって被照射物3へ光路変更され、さらに、調節レンズ10によってビ-ムの拡がり等が調整された後にフィルタ11によって所望のエネルギ-密度の副ビ-ムE1となる。したがて、ビ-ムの移動方向に対してエネルギ-の異なる主ビ-ムE2と副ビ-ムE1とが平行して出力されることとなる。
請求項（抜粋）：
絶縁性基板上に設けられた半導体膜をエキシマレ-ザにてアニ-ルするエキシマレ-ザ装置において、少なくとも2つのエネルギ-密度の異なるレ-ザ光を発生するレ-ザ光発生手段と、前記レ-ザ光発生手段により発生されたエネルギ-密度の異なるレ-ザ光を前記半導体膜上に導くと共に、その照射点を互いに離隔させ且つ直線上に配する導光手段と、を具備することを特徴とするエキシマレ-ザアニ-ル装置。
IPC (2件)：
H01L 21/268
, H01L 21/324
