特許

J-GLOBAL ID：200903088998954886

ポジ型フォトレジスト組成物

発明者： 佐藤 健一郎 ,  青合 利明
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 小栗 昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-138882
公開番号（公開出願番号）：特開2001-318465
出願日： 2000年05月11日
公開日（公表日）： 2001年11月16日
要約：

【要約】【課題】 超微細加工が可能な短波長の露光光源及びポジ型化学増幅レジストを用いたリソグラフィー技術に関し、コンタクトホールの形成において、PED、感度、及び、解像力が良好なポジ型レジスト組成物を提供すること。【解決手段】 (A)特定の酸分解性基を有する繰り返し構造単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂及び(B)活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

請求項（抜粋）：

(A)下記一般式(I)で示される繰り返し構造単位および下記一般式(II)で示される酸分解性基を有する繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、及び、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。【化1】【化2】一般式(I)中、R11〜R14は、各々、水素原子又は置換基を有しても良いアルキル基を表す。aは0または1である。一般式(II)中、R15は、水素原子又はアルキル基を表す。 R16は、単結合、又は、置換基を有してもよい、炭素数1〜20の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基を表す。 Aは、単結合、エーテル基、チオエーテル基、又はアミド連結基を表す。 R17は、水素原子、置換基を有してもよい直鎖状または分岐状のアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアラルキル基、置換基を有してもよい環状炭化水素基、又は、置換基を有してもよい環状エーテル基を表す。 但し、Aが単結合のとき、R17は、置換基を有する直鎖状または分岐状のアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアラルキル基、置換基を有してもよい環状炭化水素基、又は、置換基を有してもよい環状エーテル基を表す。 mは、1〜6の整数を表す。

IPC (10件)：

G03F 7/039 601 ,  C08F220/00 ,  C08F222/04 ,  C08F232/08 ,  C08K 5/00 ,  C08L 33/04 ,  C08L 35/00 ,  C08L 45/00 ,  G03F 7/004 504 ,  H01L 21/027

FI (10件)：

G03F 7/039 601 ,  C08F220/00 ,  C08F222/04 ,  C08F232/08 ,  C08K 5/00 ,  C08L 33/04 ,  C08L 35/00 ,  C08L 45/00 ,  G03F 7/004 504 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (40件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BF02 ,  2H025BF11 ,  2H025BG00 ,  2H025CB10 ,  2H025CB43 ,  2H025CC04 ,  2H025CC20 ,  4J002BG021 ,  4J002BH021 ,  4J002BK001 ,  4J002ER027 ,  4J002EV296 ,  4J002FD206 ,  4J002FD318 ,  4J002GP03 ,  4J100AK32R ,  4J100AL08Q ,  4J100AM43R ,  4J100AR09P ,  4J100AR11P ,  4J100BA02Q ,  4J100BC04Q ,  4J100BC08Q ,  4J100BC09Q ,  4J100BC53Q ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100CA31 ,  4J100HA53 ,  4J100JA38