特許

J-GLOBAL ID：200903089010296800

インクジェット記録ヘッドの作製方法およびインクジェット記録ヘッド

発明者： 小竹 直志 ,  小泉 幸久 ,  森 豊 ,  片岡 雅樹 ,  鈴木 雅
出願人/特許権者： 富士ゼロックス株式会社
代理人 (1件)： 石井 康夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-272370
公開番号（公開出願番号）：特開平8-132628
出願日： 1994年11月07日
公開日（公表日）： 1996年05月28日
要約：

【要約】【目的】 異方性エッチングによりアンダーカットされる領域が大きくなっても、エッチングマスクにクラックが生じることが防止できるインクジェット記録ヘッドの作製方法を提供する。【構成】 シリコン基板1にエッチングマスク2をパターニングした後、エッチング液を用いてエッチングする。エッチング時間が長くなると、図に示すように、エッチングマスク2の下部のアンダーカットされる領域2aが大きくなる。そうすると、マスクパターンの角部にクラックが発生しやすく、クラックからエッチングマスクの下がエッチングされ、形状不良を起こす。本発明では、マスクパターンの開口の角部を曲線状にして、クラックの発生を防止する。

請求項（抜粋）：

第1の基板にノズルとなる溝を形成し、第2の基板と貼り合わせてインクジェット記録ヘッドを作製するインクジェット記録ヘッドの作製方法において、前記第1の基板をエッチングして前記溝を形成する際に、角部を曲線もしくは複数の鈍角で分割した形状としたエッチングマスクを用いてエッチングを行なうことを特徴とするインクジェット記録ヘッドの作製方法。

IPC (2件)：

B41J 2/16 ,  B41J 2/05

FI (2件)：

B41J 3/04 103 H ,  B41J 3/04 103 B

引用特許：

審査官引用 (2件)

• シリコンウェハーの加工方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-325999   出願人：セイコーエプソン株式会社
• 特開平2-153745