特許

J-GLOBAL ID：200903089014330131

浮動塗布ダイ搭載装置

発明者： シリスキ,スコット エル. ,  エリクソン,ルーサー イー. ,  メイヤー,ゲイリー ダブリュ. ,  ワホスキー,ブルース ジェイ.
出願人/特許権者： ミネソタ マイニング アンド マニュファクチャリング カンパニー
代理人 (1件)： 石田 敬 (外3名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-579364
公開番号（公開出願番号）：特表2002-528269
出願日： 1999年02月12日
公開日（公表日）： 2002年09月03日
要約：

【要約】予計量式接触塗布ダイ(10)のための調節可能な搭載システム(400)は、基部(402)と、基部に可動式に接続されたダイ支持部(416)とを有する。塗布中に、ダイは、ダイと被塗布表面との間の力の平衡に基づく距離だけ、塗工中の表面から離れて浮くことができる。これにより、変動可能な分離ギャップが生じ、ウェブまたは流体の特性の変動に対して自動的に自己補正できるようになる。これはまた、塗布特性を最適化する。搭載システムは、その構成要素を保護するための閉鎖容器を有することもできる。

請求項（抜粋）：

予計量式接触塗布ダイ10のための調節可能な搭載装置100、200、300、400、500、600であって、 基部102、202、302、402、502、604と、 前記基部に接続されたダイ支持部108、208、306、416、510と、 前記ダイ支持部を前記基部に可動式に接続する手段と、 塗布される表面に近接して前記ダイ支持部の位置を精密に変化させることによって、塗布中に、前記ダイ10を、該ダイと被塗布表面との間の力の平衡に基づく距離だけ、塗工中の該表面から離れて浮かせることを可能にし、それにより可変分離ギャップを生成するとともに、ウェブまたは流体特性の変動に対して自動的に自己補正できるようにして、塗布特性を最適化させる手段と、を具備する搭載装置100、200、300、400、500、600。

IPC (2件)：

B05C 5/02 ,  B05C 13/00

FI (2件)：

B05C 5/02 ,  B05C 13/00

Fターム (11件)：

4F041AA12 ,  4F041BA05 ,  4F041BA21 ,  4F041CA02 ,  4F041CA13 ,  4F042AA22 ,  4F042AB00 ,  4F042BA08 ,  4F042CB02 ,  4F042DD44 ,  4F042ED08

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 塗布装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-209423   出願人：大日本印刷株式会社
• 特開昭56-118764
  
• 特開昭59-173164
  
• ニップロール式ダイコータ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-338701   出願人：中外炉工業株式会社
• 塗工装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-059638   出願人：井上金属工業株式会社