特許

J-GLOBAL ID：200903089014443750

水素製造装置及びその運転法とそれを用いた発電システム

発明者： 小町谷 昌宏 ,  檜山 清志 ,  吉田 紀子 ,  今田 典幸 ,  岡野 哲朗 ,  加来 宏行 ,  谷田部 広志
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所 ,  バブコック日立株式会社
代理人 (2件)： 小川 勝男 ,  田中 恭助
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-161062
公開番号（公開出願番号）：特開2004-002121
出願日： 2002年06月03日
公開日（公表日）： 2004年01月08日
要約：

【課題】水素製造装置に係る触媒反応部の暴走温度を、ガス組成に悪影響なく速やかに、簡単に制御することにある。【解決手段】CO選択酸化部12にH2リッチに濃度を低減したCOを含む混合ガス102を流入し、触媒反応により残留COをCO2にするCO選択酸化から出力され混合ガスを冷却すると共に、冷却された混合ガスの一部を分流した還流ガス104を、再びCO選択酸化部に入流し、触媒反応温度の暴走温度を、ガス組成に悪影響なく速やかに制御することができる。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

触媒反応を使って水素含有ガスを生成する水素製造装置であって、当該触媒反応の少なくとも一つで得られた反応ガスを分流し、上記水素製造装置内にあって目的とする他のガスに対して異なる温度で混合することで、当該目的とするガスの平均温度を所望の値にするガス温度調節手段を有し、当該ガス温度調節手段によって、上記触媒反応に係る少なくとも一つの触媒反応部の温度を制御するようにしたことを特徴とする水素製造装置。

IPC (3件)：

C01B3/38 ,  H01M8/04 ,  H01M8/06

FI (4件)：

C01B3/38 ,  H01M8/04 Y ,  H01M8/04 Z ,  H01M8/06 G

Fターム (12件)：

4G140EA03 ,  4G140EA06 ,  4G140EB32 ,  4G140EB35 ,  4G140EB43 ,  4G140EB47 ,  5H026AA06 ,  5H027AA06 ,  5H027BA01 ,  5H027BA16 ,  5H027BA17 ,  5H027KK42