特許

J-GLOBAL ID：200903089018453289

プラズマ処理装置

発明者： 今福 光祐 ,  小林 義之 ,  長山 将之 ,  遠藤 昇佐
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 浅井 章弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-261353
公開番号（公開出願番号）：特開平10-092796
出願日： 1996年09月10日
公開日（公表日）： 1998年04月10日
要約：

【要約】【課題】 電極周辺の消耗部品として耐プラズマ性が高く、パーティクルも発生し難い材料を用いたプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】 真空引き可能になされた処理容器4内にて載置台6上に載置された被処理体に対してプラズマ処理を施すプラズマ処理装置において、前記処理容器内に設けられた消耗部品24、46を、純度99.9%以上で、かさ比重が3.980以上の多結晶アルミナ質焼結体により構成する。これにより、プラズマに対する耐久性を向上し、堆積物に対する密着性を向上させてパーティクルを剥がれ難くする。

請求項（抜粋）：

真空引き可能になされた処理容器内にて載置台上に載置された被処理体に対してプラズマ処理を施すプラズマ処理装置において、前記処理容器内に設けられた消耗部品を、純度99.9%以上で、かさ比重が3.980以上の多結晶アルミナ質焼結体により構成したことを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (7件)：

H01L 21/3065 ,  C23C 16/44 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/203 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/285 ,  H01L 21/68

FI (8件)：

H01L 21/302 B ,  C23C 16/44 B ,  C23F 4/00 A ,  H01L 21/203 S ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/285 S ,  H01L 21/285 C ,  H01L 21/68 N