特許
J-GLOBAL ID：200903089018477960
撥液性粒子および撥液性粒子の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
増田 達哉
, 朝比 一夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-268944
公開番号（公開出願番号）：特開2006-083279
出願日： 2004年09月15日
公開日（公表日）： 2006年03月30日
要約：
【課題】撥液性および耐久性に優れる撥液膜を基材の表面に形成するために用いられる撥液性粒子、また、かかる撥液性粒子の製造方法を提供すること。【解決手段】本発明の撥液性粒子は、撥液膜を形成するために用いられ、少なくとも表面付近がフッ素原子とシリコン原子とを含む物質を主材料として構成されるものであり、この撥液性粒子の表面を、X線光電子分光分析法で測定したとき、得られたスペクトルにおいて、92〜110eVの範囲で、かつ、87eVでの値と115eVでの値とを結ぶ第1のベースラインより上の範囲の面積をXとし、680〜695eVの範囲で、かつ、675eVでの値と700eVでの値とを結ぶ第2のベースラインより上の範囲の面積をYとしたとき、Y/Xが1/50〜1なる関係を満足する。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
撥液膜を形成するために用いられ、少なくとも表面付近がフッ素原子とシリコン原子とを含む物質を主材料として構成される撥液性粒子であって、
該撥液性粒子の表面を、X線光電子分光分析法で測定したとき、得られたスペクトルにおいて、92〜110eVの範囲で、かつ、87eVでの値と115eVでの値とを結ぶ第1のベースラインより上の範囲の面積をXとし、680〜695eVの範囲で、かつ、675eVでの値と700eVでの値とを結ぶ第2のベースラインより上の範囲の面積をYとしたとき、Y/Xが1/50〜1なる関係を満足することを特徴とする撥液性粒子。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (14件)：
4F070AA60
, 4F070AC17
, 4F070AD10
, 4F070AE27
, 4F070AE30
, 4F070BA07
, 4F070BA08
, 4F070BB02
, 4F070DB03
, 4F070DB10
, 4F070DC02
, 4F070DC05
, 4F070DC13
, 4F070DC14
