真空処理装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴江武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-205811
公開番号（公開出願番号）：特開平11-050253
出願日： 1997年07月31日
公開日（公表日）： 1999年02月23日
要約：

【要約】【課題】ロードロック室を速く減圧できるようにし、もって被処理物を速く通過させ、生産効率を向上することを課題とする。【解決手段】ディスク2の処理を行うスパッタ室3と、このスパッタ室3へディスク2の出し入れを行うロードロック室と、このロードロック室4を閉じる上蓋15とを具備する真空処理装置において、前記ロードロック室4の一部を構成する装置本体1にロードロック室15と連通する空気通路17,18を設け、この空気通路17,18が形成された装置本体1あるいは前記上蓋15の少なくとも一方に、空気通路17,18からの空気を一時的に溜める副室19を設けたことを特徴とする真空処理装置。

請求項（抜粋）：

被処理物の処理を行う真空処理室と、この真空処理室へ被処理物の出し入れを行うロードロック室と、このロードロック室を閉じる上蓋とを具備する真空処理装置において、前記ロードロック室の一部を構成する装置本体にロードロック室と連通する空気通路を設け、この空気通路が形成された装置本体あるいは前記上蓋の少なくとも一方に、空気通路からの空気を一時的に溜める副室を設けたことを特徴とする真空処理装置。

IPC (4件)：

C23C 14/56 , B01J 3/00 , H01L 21/203 , H01L 21/68

FI (5件)：

C23C 14/56 H , C23C 14/56 G , B01J 3/00 L , H01L 21/203 S , H01L 21/68 A

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