フィルム基材用ハードコート膜、及びその形成方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：光来出良彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-102070
公開番号（公開出願番号）：特開平11-279303
出願日： 1998年03月30日
公開日（公表日）： 1999年10月12日
要約：

【要約】【課題】従来のゾル溶液に比べて長期間安定なゾル溶液を用いることができ、短時間あるいは低い加熱温度で硬化塗膜とすることができ、フィルム基材に対して硬化塗膜の密着性が優れ、ハード性能に優れたSiO2 ゲル膜を主成分とするフィルム基材用ハードコート膜、及びその形成方法を提供する。【解決手段】下記一般式で表される珪素アルコキシドを加水分解して調製した少なくとも一部が分子量2万〜6万のSiO2 ゾルを含むSiO2 ゾルをフィルム基材上に塗布し、加熱によりゲル化するか、或いは活性エネルギー線を照射することによりゲル化する。【数1】(Rは炭素数1〜10のアルキル基、ビニル基、(メタ)アクリロイル基、エポキシ基、アミド基、スルホニル基、水酸基又はカルボキシル基、R’は炭素数1〜10のアルキル基を表し、m+nは4の整数である。)

請求項（抜粋）：

下記一般式で表される珪素アルコキシドを加水分解して調製したSiO2 ゾルを主成分とするSiO2 ゾル膜をゲル化してなるSiO2 ゲル膜からなることを特徴とするフィルム基材用ハードコート膜。【数1】(Rは炭素数1〜10のアルキル基、ビニル基、(メタ)アクリロイル基、エポキシ基、アミド基、スルホニル基、水酸基又はカルボキシル基、R’は炭素数1〜10のアルキル基を表し、m+nは4の整数である。)

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