特許

J-GLOBAL ID：200903089028077382

感光性永久マスクパターンの製造法及び現像液

発明者： 天野倉 仁 ,  太田 文彦 ,  小畑 立子 ,  赤堀 聡彦 ,  鈴木 健司 ,  西澤 ▲広▼
出願人/特許権者： 日立化成工業株式会社
代理人 (1件)： 穂高 哲夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-033351
公開番号（公開出願番号）：特開平11-084682
出願日： 1998年02月16日
公開日（公表日）： 1999年03月26日
要約：

【要約】【課題】 感光性永久マスクの問題点である現像時間を短縮し、解像性を向上させ、かつ現像残渣を発生させない感光性永久マスク用現像液及びこれを用いた感光性永久マスクパターンの製造法を提供する。【解決手段】 100ミリ秒後の動的表面張力変化量が20mN/m以上である感光性永久マスク用現像液であって(A)酸価が20〜300、重量平均分子量が400〜500,000の樹脂、(B)エチレン性不飽和結合を分子内に1個以上有する光重合性化合物及び(C)光重合開始剤を含有してなる感光性永久マスクを現像するための感光性永久マスク用現像液及びこれを用いた感光性永久マスクパターンの製造法。

請求項（抜粋）：

100ミリ秒後の動的表面張力変化量が20mN/m以上である感光性永久マスク用現像液であって(A)酸価が20〜300、重量平均分子量が400〜500,000の樹脂、(B)エチレン性不飽和結合を分子内に1個以上有する光重合性化合物及び(C)光重合開始剤を含有してなる感光性永久マスクを現像するための感光性永久マスク用現像液。

IPC (3件)：

G03F 7/32 ,  G03F 7/038 503 ,  H05K 3/28

FI (3件)：

G03F 7/32 ,  G03F 7/038 503 ,  H05K 3/28 D