特許
J-GLOBAL ID：200903089046188760
転写装置及び現像装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小島 隆司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-206013
公開番号（公開出願番号）：特開平8-050421
出願日： 1994年08月08日
公開日（公表日）： 1996年02月20日
要約：
【要約】【構成】 高分子物質を基材としこれに電荷移動錯体を形成し得る電子受容物質を添加してなるバイアス電圧を印加し得る半導電性高分子部材を構成要素として含む転写部材又は現像部材と、定電圧転写装置用電源又は定電圧現像装置用電源とを具備することを特徴とする転写装置又は現像装置。【効果】 本発明の帯電装置を画像形成装置に利用すれば、好適な画像が得られる。
請求項（抜粋）：
高分子物質を基材としこれに電荷移動錯体を形成し得る電子受容物質を添加してなるバイアス電圧を印加し得る半導電性高分子部材を構成要素として含む転写部材と、定電圧転写装置用電源とを具備することを特徴とする転写装置。
IPC (3件)：
G03G 15/16 103
, G03G 15/00 550
, G03G 15/06 101
