特許

J-GLOBAL ID：200903089047264916

無機ポリマ薄膜

発明者： 大石 知司 ,  高橋 研 ,  中澤 哲夫 ,  田中 滋 ,  三吉 忠彦
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-232303
公開番号（公開出願番号）：特開平8-091810
出願日： 1990年07月11日
公開日（公表日）： 1996年04月09日
要約：

【要約】【目的】残留有機物の少ない化学量論比のそろった高分子金属ポリマ薄膜が低温で熱処理しない方法で得られる無機ポリマ薄膜を提供する。【構成】分解開始温度が300°C以下である基板上に形成された無機ポリマ薄膜の炭素量が0.01 乃至4原子%であって、C-H結合を含み、実質的に金属酸化物からなる非結晶の無機ポリマであることを特徴とする無機ポリマ薄膜。【効果】残留有機物の少ない化学量論比のそろった高分子金属ポリマ薄膜が低温で熱処理しない方法で得られる。

請求項（抜粋）：

分解開始温度が300°C以下である基板上に形成された無機ポリマ薄膜の炭素量が0.01 乃至4原子%であって、少量のC-H結合を含み、実質的に金属酸化物からなる非晶質の無機ポリマであることを特徴とする無機ポリマ薄膜。

IPC (14件)：

C01B 13/32 ,  B01J 19/00 ,  B01J 19/12 ,  B41M 5/26 ,  C01B 17/20 ,  C01B 33/12 ,  C01G 15/00 ,  C01G 19/02 ,  C01G 23/04 ,  G11B 7/24 511 ,  G11B 7/24 538 ,  G11B 7/24 ,  H01G 4/33 ,  H01L 21/314

FI (2件)：

B41M 5/26 X ,  H01G 4/06 102