特許
J-GLOBAL ID：200903089049508936
施釉設備
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-239150
公開番号（公開出願番号）：特開2001-064088
出願日： 1999年08月26日
公開日（公表日）： 2001年03月13日
要約：
【要約】【課題】 施釉製品の表面外観を低下させることなく、抗菌性を有する施釉製品を製造するための施釉設備を提供すること。【解決手段】 釉薬原料以外にAg及び/又はCuを含有する抗菌剤を含む釉薬を調製するための調製手段と、異物除去手段を含む精製手段と、貯蔵手段と、施釉手段と、送釉経路とを備え、送釉経路、施釉手段のうちの少なくとも1箇所には異物除去手段がさらに設けられていることを特徴とする施釉設備。
請求項（抜粋）：
釉薬原料以外にAg及び/又はCuを含有する抗菌剤を含む釉薬を調製するための調製手段と、前記調製した釉薬の粒度を調整し異物を除去するための釉薬精製手段と、前記精製した釉薬を貯蔵するための貯蔵手段と、前記釉薬を施釉するための施釉手段と、前記調製手段から前記釉薬精製手段へ調製された釉薬を搬送するための第一の送釉経路と、前記釉薬精製手段から前記貯蔵手段へ精製された釉薬を搬送するための第二の送釉経路と、前記貯蔵手段から前記施釉手段へ釉薬を搬送するための第三の送釉経路とを備え;前記第二の送釉経路、前記第三の送釉経路、前記施釉手段のうちの少なくとも1箇所には異物除去手段がさらに設けられていることを特徴とする施釉設備。
IPC (3件)：
C04B 41/86
, A01N 59/16
, A01N 59/20
C04B 41/86 K
, A01N 59/16 A
, A01N 59/20 Z
4H011AA02
, 4H011BB18
, 4H011BC18
, 4H011DA01
