特許
J-GLOBAL ID：200903089053270871
シリカの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小島 隆司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-108371
公開番号（公開出願番号）：特開平9-278430
出願日： 1996年04月04日
公開日（公表日）： 1997年10月28日
要約：
【要約】【解決手段】 ケイ酸ナトリウム水溶液に炭酸水素ナトリウム水溶液を添加して反応させ、シリカヒドロゲルと炭酸ナトリウムとを含む反応混合液を製造した後、この反応混合液からシリカヒドロゲルを分離、採取することを特徴とするシリカの製造方法。【効果】 本発明によれば、従来のケイ酸ナトリウムと鉱酸との反応によるシリカの製造方法と同等の反応速度で沈降性のよいシリカを効率よく製造することができ、また、シリカを分離した反応混合液に二酸化炭素を導入、接触させることで反応混合液の炭酸ナトリウムを炭酸水素ナトリウムに転換することができるので、二酸化炭素の有効利用を図ることができる。
請求項（抜粋）：
ケイ酸ナトリウム水溶液に炭酸水素ナトリウム水溶液を添加して反応させ、シリカヒドロゲルと炭酸ナトリウムとを含む反応混合液を製造した後、この反応混合液からシリカヒドロゲルを分離、採取することを特徴とするシリカの製造方法。
引用特許：
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