特許
J-GLOBAL ID:200903089055835400

慣性力センサ及び慣性力センサの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 青山 葆 (外1名)
公報種別:再公表公報
出願番号(国際出願番号):JP1999000078
公開番号(公開出願番号):WO2000-042666
出願日: 1999年01月13日
公開日(公表日): 2000年07月20日
要約:
【要約】力が加えられたときに変位する質量体(11)と、該質量体(11)を保持する少なくとも1本の保持梁(12)と、該保持梁(12)の一端を固定する固定部(13)とを備えていて、上記質量体(11)の変位に基づいて該質量体(11)に作用する慣性力を検出するようになっている慣性力センサであって、質量体(11)が、シリコン基板(1)の内部が1工程内のエッチングにより除去されてなる中空構造体(9)であり、固定部(13)が、シリコン基板本体部の少なくとも一部であることを特徴とする。該慣性力センサは単結晶シリコンで形成されているので、その機械的特性及び信頼性が大幅に高められている。
請求項(抜粋):
力が加えられたときに変位する質量体と、該質量体を保持する少なくとも1本の保持梁と、該保持梁の一端を固定する固定部とを備えていて、上記質量体の変位に基づいて該質量体に作用する慣性力を検出するようになっている慣性力センサであって、 上記質量体が、シリコン基板の内部がエッチングにより除去されてなる中空構造体であり、 上記固定部が、上記シリコン基板本体部の少なくとも一部である慣性力センサ。
IPC (4件):
H01L 29/84 ,  G01L 9/04 ,  G01P 15/12 ,  G01P 15/125
FI (4件):
H01L 29/84 B ,  G01L 9/04 ,  G01P 15/12 ,  G01P 15/125

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