特許

J-GLOBAL ID：200903089063890932

化学的気相析出装置

発明者： 中川 萬先充
出願人/特許権者： 日本ビクター株式会社
代理人 (1件)： 三好 秀和 (外9名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-074584
公開番号（公開出願番号）：特開平11-269645
出願日： 1998年03月23日
公開日（公表日）： 1999年10月05日
要約：

【要約】【課題】 被成膜体の品質が向上でき、被成膜体の不良品の発生が防止できるCVD装置を提供する。長時間連続した成膜が実現できるCVD装置を提供する。稼働率が向上でき、生産性が向上できるCVD装置を提供する。【解決手段】 CVD装置において、処理室系内の成膜不適切部分への成膜を防ぐ帯状の成膜防止マスク15と、成膜防止マスク15を処理室系内で走行させるマスク走行機構と、を備える。成膜防止マスク15は、60°C以上のガラス転移温度を有する高分子樹脂フィルム、1μm〜100μmの範囲内に膜厚を設定した高分子樹脂フィルム、又は1nm〜100nmの範囲内の表面粗さに設定した高分子樹脂フィルムで形成される。

請求項（抜粋）：

処理室系内において成膜不適切部分への成膜を防ぐ帯状の成膜防止マスクと、前記を処理室系内で走行させるマスク走行機構と、を備え、前記成膜防止マスクは60°C以上のガラス転移温度を有する高分子樹脂フィルムで形成されたことを特徴とする化学的気相析出装置。

IPC (4件)：

C23C 16/04 ,  G11B 5/85 ,  H01F 41/22 ,  H01L 21/205

FI (4件)：

C23C 16/04 ,  G11B 5/85 A ,  H01F 41/22 ,  H01L 21/205