特許
J-GLOBAL ID:200903089067246620
基板処理装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
井上 俊夫
, 水野 洋美
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-307227
公開番号(公開出願番号):特開2004-146450
出願日: 2002年10月22日
公開日(公表日): 2004年05月20日
要約:
【課題】複数の処理ユニットにより順次処理されることにより基板に対して所定の処理を行う際に、装置占有面積が小さく、かつ高いスループットで基板を処理することができる基板処理装置を提供する。【解決手段】基板を搬送するために上下方向に伸びる搬送領域20の周囲に複数のタワーTWを配置し、これらタワーTWの各々に複数段の処理ブロックを割り当てる。そして複数段の処理ブロックBの各々に互いに積層された複数の処理ユニットと、外部からの基板が搬入される基板搬入部と、基板を外部に搬出する基板搬出部などを組み込むと共に、これらの各処理ユニットと基板搬入部と基板搬出部との間で基板の受け渡しを行うと共に互いに独立して駆動される複数の基板搬送手段3が設けられた基板処理装置を用いて、基板の表面に絶縁膜を形成するための処理が各処理ブロックでいわば並行処理されるように構成する。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
基板に対して複数の処理ユニットにより順次処理されることにより所定の処理が行われる基板処理装置において、
基板を搬送するために上下方向に伸び、複数段の搬送ゾーンに分割された搬送領域と、
この搬送領域の周囲に設けられた複数のタワーと、
これら複数のタワーの各々において、前記複数段の搬送ゾーンに対応して夫々割り当てられた複数段の処理ブロックと、
これら複数段の処理ブロックの各々に設けられ、互いに積層された複数の処理ユニットと、
少なくとも一つのタワーに設けられ、外部からの基板が搬入される基板搬入部と、
少なくとも一つのタワーに設けられ、前記基板搬入部から搬入された基板が複数段の処理ブロックのうちのいずれか一つの段の処理ブロックにて処理された後、外部に搬出される基板搬出部と、
前記複数段の搬送ゾーンの夫々に設けられ、その搬送ゾーンに対応する処理ブロックの各処理ユニットと基板搬入部と基板搬出部との間で基板の受け渡しを行うと共に互いに独立して駆動される複数の基板搬送手段と、を備えたことを特徴とする基板処理装置。
IPC (4件):
H01L21/68
, B65G49/07
, G03F7/16
, H01L21/027
FI (4件):
H01L21/68 A
, B65G49/07 D
, G03F7/16 502
, H01L21/30 562
Fターム (33件):
2H025AB16
, 2H025EA05
, 2H025EA10
, 5F031CA02
, 5F031CA05
, 5F031DA01
, 5F031FA01
, 5F031FA02
, 5F031FA07
, 5F031FA11
, 5F031FA12
, 5F031FA15
, 5F031GA04
, 5F031GA32
, 5F031GA47
, 5F031GA49
, 5F031GA50
, 5F031HA37
, 5F031HA48
, 5F031HA59
, 5F031LA14
, 5F031MA02
, 5F031MA04
, 5F031MA24
, 5F031MA26
, 5F031MA30
, 5F031NA02
, 5F031PA02
, 5F046CD01
, 5F046JA00
, 5F046KA00
, 5F046LA00
, 5F046MA00
引用特許:
審査官引用 (6件)
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基板処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-248709
出願人:大日本スクリーン製造株式会社
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特開平4-158508
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特開平2-152251
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基板処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-162562
出願人:東京エレクトロン株式会社
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真空搬送処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-340958
出願人:アネルバ株式会社
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真空処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-266359
出願人:日新電機株式会社
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